// Targetqualifizierung

Das ZSW qualifiziert auf der Basis langjähriger Erfahrung mit Sputterprozessen auch Sputtertargets (z.B. ZnO:Al2O3-Targets) verschiedener Hersteller für den Einsatz in industriellen Großanlagen. Die Targets werden auf standardisierte Weise eingesputtert und bis zu hohen Sputterleistungen geprüft. Die Sputtertauglichkeit wird anhand der Neigung zu Arcs, der Targetverpickelung und der erreichbaren Schichtqualität überprüft. In Absprache mit dem Kunden führt das ZSW Parametervariationen beim Sputterprozess (Druck, Leistung etc.) durch und charakterisiert die fertigen Schichten. Auf Wunsch werden die Schichten auch in kompletten Schichtsystemen, wie z.B. in CIGS-Solarzellen, untersucht.

Anforderungen

Targets auf Typ PK500-Kathode (488 mm x 88 mm)

Ausstattung

  • Durchlaufsputteranlagen für bis zu 30 x 30 cm2 Substrate
  • Laboranlagen für Sputtern, Aufdampfung und Plasma-CVD für bis zu 10 x 10 cm2 Substrate

Ansprechpartner

Richard Menner
+49 711 78 70-212
Dual-Magnetron-Anordnung für reaktive Abscheidung

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